设备介绍
HANA双腔磁控溅射镀膜机分为前工艺室和溅射镀膜室两部分
前工艺室:
溅射镀膜室:
.装有离子源清洗装置,清洗基片表面油污和增强附着力
1.采用4对(8个)靶位的设计,可以进行多层不同材料的连续镀膜
2.装有两个靶位可以镀金属膜,减少对镀膜室污染
2.先进的德国CCR镀膜工艺做后氧化处理,对膜的品质更优3.工装板机械结构传递,在真空环境下不受污染,加快镀膜节拍4.末端采用开门式布局,使用中的保养和维修更便捷
3.AF药丸加热防指纹镀膜,利用率高,成本低,效果更优
4.双开门结构,无缝衔接的连续生产,节省整个镀膜节拍时间