多弧镀膜设备首页 > 设备类 > 多弧镀膜设备

 

多弧镀膜设备

设备简介:

本装置是在真空状态下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,即从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子,由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性的等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层的设备。

1.真空室尺寸     :φ1000×1200;φ1200×1300;φ1400×1300;φ1600×1300;   材料:SUS304。
2.真空室结构     :立式前开门结构、后置抽气系统。
3.真空系统       :机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或配选分子泵、深冷泵、深冷系统)。
4.循环冷却水装置 :双层水套式或水槽式冷却系统。
5.工艺电源       :直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源。
6.多弧靶         :多弧靶5个或18个,1个或2个柱弧靶。
7.孪生靶         :中频孪生柱靶或平面靶(1~4对)。
8.加热系统       :常温至350度可调可控(PID温控),不锈钢加热管加热。
9.充气系统       :质量流量控制仪(1~4路)。
10.极限真空      :6×10-4Pa(空载、净室)。
11.抽气时间      :空载大气抽至5×10-3Pa小于13分钟。
12.工件旋转方式  :上旋转或下旋转+公自转无极可控调控,0-20转/分。
13.控制系统      :可编程控制器,触摸屏。