连续式双腔磁控溅射光学镀膜机

设备介 绍

HANA双腔磁控溅射镀膜机分为前工艺室和溅射镀膜室两部分

前工艺室：

1．装有离子源清洗装置，清洗基片表面油污和增强附着力

2．装有两个靶位可以镀金属膜，减少对镀膜室污染

3．AF药丸加热防指纹镀膜，利用率高，成本低，效果更优

4．双开门结构，无缝衔接的连续生产，节省整个镀膜节拍时间

溅射镀膜室：

1．采用4对（8个）靶位的设计，可以进行多层不同材料的连续镀膜

2．先进的德国CCR镀膜工艺做后氧化处理，对膜的质更优

3．工装板机械结构传递，在真空环境下不污染，加快镀膜节拍

4．末端采用开门式布局，使用中的保养和维修更便捷

应用领域

手机面板、车载面板、平板电脑、家电等触控面板

莫氏7以上超硬AR膜、超硬减反膜、HR膜、UV/IR截止滤光片，装饰膜、带通滤光片