连续式双腔磁控溅射光学镀膜机

设备介 绍

采用磁控溅射技术，制备截止滤光片、带通滤光片、RGB滤光片、AR膜、硬质AR膜、HR膜、AS/AF膜、AR+DLC+AS/AF膜、ITO膜、红外AR膜等。

设备特点

1.  双腔体结构两个独立的腔室镀膜腔，同时进行镀膜。

2.  射频CCR后氧化镀膜技术镀膜速度快，膜层致密性高。

3.  AF 防指纹药丸方式，使用成本低，效果更优。

4.  7平方的装载量超快的镀膜速度单台机的5倍产能。

应用领域

广泛应用于光学镀膜、3D车载中控屏超硬AR膜、手机相机高清光学镜头超硬AR膜，手机后盖NCVM颜色膜等领域。